贺州水基清洗IGBT工艺 合明科技 半导体封装清洗

合明科技专注精密电子清洗技术20多年，是SMT贴装/DIP封装，功率半导体器件及芯片封装精密清洗工艺技术方案、产品、清洗设备提供商。精密电子清洗除焊后助焊剂、锡膏、焊膏、球焊膏、焊锡膏、锡渣等残留物。水基系列产品，精细化对应涵盖从半导体封测到PCBA组件终端，包括有水基和半水基清洗剂，碱性和中性的水基清洗剂等。具体表现在，在同等的清洗力的情况下，合明科技的兼容性较佳. 封装包括倒装芯片、WLCSP晶圆级芯片封装、3D IC集成电路封装、SiP系统级封装、细间距封装等等。
选择超声波的优点
　　 在良好的清洗剂搭配下超声清洗效果好，清洁度高且全部工件清洁度一致，超声清洗速度快，提高生产效率，不须人手接触清洗液，安全可靠。 对小间隙、狭缝、细微隐蔽处、深孔的产品亦可清洗干净。通过超声波来清洗产品可以有效降低环境污染，同时减少有毒溶剂对员工的损害，而且性价比高的超声波清洗设备内置有一套的循环过滤系统，使用过的清洗溶剂能够通过过滤系统进性过滤后达到反复使用的目的，因此能够充分节约水资源和清洗溶剂，能够降低企业的清洗成本，同时还能够提高企业在环保方面的形象。

从传统的溶剂型清洗转入半水基清洗，合明需提醒的是由于清洗机理不同，对超声波的选型会有区别。溶剂型一般选用中低频的超声波，而半水基则选择中高频的超声波。同时，半水基清洗工艺需配合清洗温度和清洗时间来**清洗效果。清洗设备需吻合半水基清洗工艺的要求，包括超声频率、清洗和漂洗的功能设置，半水基清洗工艺不宜套用溶剂清洗的工艺。选定水基清洗工艺后，设备必须满足水基工艺，清洗材料与设备相辅相成，才能达到良好的清洗效果。

功率的选择
　  根据清洗的产品不同超声清洗效果不一定与功率的大小成正比，一般情况下功率大，清洗过程中空化强度将大大增加，清洗效果是提高了，但这时会使较精密的元器件也产生其他影响。但使用小功率，花很长时间也没有清除污垢。如果功率达到一定数值，有时很快便将污垢去除，因此要按具体产品情况以及机器槽体的大小来选择合适的超声功率。

清洗液温度的选择
　　 根据客户的需求选择适用合适温度的清洗剂。选用的清洗剂不同使用的温度也不尽相同；一般水基清洗剂使用适宜的清洗温度为50-60℃左右，温度高超声波清洗的效率高、效果好。
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