浙江高纯度派瑞林F粉镀膜原料 自有工厂

派瑞林parylene F粉的阻隔性为35g/m2.day

Parylene F的成膜原理
与其它Parylene原料类似，Parylene F薄膜的制备需在的真空涂覆设备上进行，设备主要由升华炉、裂解炉、沉积腔室、冷阱和真空系统几部分组成。成膜过程也包括如下3个步骤：
(1)固体环二体在一定温度下升华为气态环二体；
(2)在较高温度下气态环二体裂解为活性单体自由基；
(3)单体自由基进入沉积腔室后，在基体表面沉积聚合形成均匀无针孔并与物体形状一致的Parylene F薄

派瑞林F粉是所有派瑞林原料家族中能耐温的一款原料，长期可耐200℃高温，短期可耐高温380℃。可满足很多在高温环境下工作的产品镀膜需求。因其有耐高温的性能，避免LED产品长期工作时出现的表面发黑，严重光衰，颜色漂移等现象的发生。
Parylene F也叫 VT4粉，是国内新研发出来的一种具有耐高温、抗紫外线功能的原料。

派瑞林F粉-八氟[2.2]对环芳烷
英文名称:Dimer,Parylene F
外观 白状晶体
沸点 321℃
用途：F粉是派瑞林材料的单体，是重要的光电材料光电材料。
瑞林F粉就是派瑞林系列的一种，主要制作真空涂覆材料使用，优异的耐高温和耐紫外线效果。